See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Influence of substrate temperature on atomic layer growth and properties of HfO2 thin films

Aarik, J.; Aidla, A.; Kiisler, AA.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (1999). Influence of substrate temperature on atomic layer growth and properties of HfO2 thin films. Thin Solid Films, 340, 110−116.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Kiisler, AA.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
340
1999
110116
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science