Influence of substrate temperature on atomic layer growth and properties of HfO2 thin films

Aarik, J.; Aidla, A.; Kiisler, AA.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (1999). Influence of substrate temperature on atomic layer growth and properties of HfO2 thin films. Thin Solid Films, 340, 110−116.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Kiisler, AA.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
340
1999
110116
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science