Comparative study of flatband voltage transients on high-k dielectric-based metal-insulator-semiconductor capacitors

Dueñas, S.; Castán, H.; García, H.; Gómez, A.; Bailón, L.; Kukli, K.; Aarik, J.; Ritala, M.; Leskelä, M. (2008). Comparative study of flatband voltage transients on high-k dielectric-based metal-insulator-semiconductor capacitors. Journal of the Electrochemical Society, 155 (11), G241−G246.
ajakirjaartikkel
Dueñas, S.; Castán, H.; García, H.; Gómez, A.; Bailón, L.; Kukli, K.; Aarik, J.; Ritala, M.; Leskelä, M.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
0013-4651
155
11
2008
G241G246
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile