Atomic layer deposition of TiO2 thin films from TiI4 and H2O

Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Kukli, K.; Sammelselg, V.; Ritala, M.; Leskela, M. (2002). Atomic layer deposition of TiO2 thin films from TiI4 and H2O. Applied Surface Science, 193, 277−286.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Kukli, K.; Sammelselg, V.; Ritala, M.; Leskela, M.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
193
2002
277286
10
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile