See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: investigation of growth mechanism

Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T. (2001). Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: investigation of growth mechanism. Applied Surface Science, 172, 148−158.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
172
2001
148158
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science