Atomic layer deposition of iron oxide thin films and nanotubes using ferrocene and oxygen as precursors

Rooth, M.; Johansson, A.; Kukli, K.; Aarik, J.; Boman, M.; Hårsta, A. (2008). Atomic layer deposition of iron oxide thin films and nanotubes using ferrocene and oxygen as precursors. Chemical Vapor Deposition, 14, 67−70.10.1002/cvde.200706649.
ajakirjaartikkel
Rooth, M.; Johansson, A.; Kukli, K.; Aarik, J.; Boman, M.; Hårsta, A.
  • Inglise
Chemical Vapor Deposition
0948-1907
14
2008
6770
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1002/cvde.200706649