Atomic layer deposition of thin films using O-2 as oxygen source

Schuisky, M.; Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A.; Harsta, A. (2001). Atomic layer deposition of thin films using O-2 as oxygen source. Langmuir, 17 (18), 5508−5512.
ajakirjaartikkel
Schuisky, M.; Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A.; Harsta, A.
  • Inglise
Langmuir
American Chemical Society
0743-7463
17
18
2001
55085512
5
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science