Atomic layer deposition of high-k dielectrics on carbon nanoparticles

Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Mändar, Hugo; Aidla, Aleks; Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Roosalu, Kaspar; Lu, Jun; Hultman, Lars; Koel, Mihkel; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of high-k dielectrics on carbon nanoparticles. Thin Solid Films, 538, 16−20.dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.09.071.
ajakirjaartikkel
Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Mändar, Hugo; Aidla, Aleks; Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Roosalu, Kaspar; Lu, Jun; Hultman, Lars; Koel, Mihkel; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan
  • Inglise
Süsiniknanopallide katmine aatomkihtsadestades kõrge dielektrilise labitavusega oksiididega
Thin Solid Films
0040-6090
538
2013
1620
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.09.071