In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC2H5)(5) and H2O

Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Siimon, H.; Ritala, M.; Leskela, M. (1997). In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC2H5)(5) and H2O. Applied Surface Science, 112, 236−242.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Siimon, H.; Ritala, M.; Leskela, M.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
112
1997
236242
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science