See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC2H5)(5) and H2O

Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Siimon, H.; Ritala, M.; Leskela, M. (1997). In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC2H5)(5) and H2O. Applied Surface Science, 112, 236−242.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Siimon, H.; Ritala, M.; Leskela, M.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
112
1997
236242
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science