Engineering structure and properties of hafnium oxide films by atomic layer deposition temperature

Kukli, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Lu, J.; Ritala, M.; Aidla, A.; Pung, L.; Harsta, A.; Leskela, M.; Kikas, A.; Sammelselg, V. (2005). Engineering structure and properties of hafnium oxide films by atomic layer deposition temperature. Thin Solid Films, 479, 1−11.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Lu, J.; Ritala, M.; Aidla, A.; Pung, L.; Harsta, A.; Leskela, M.; Kikas, A.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
479
2005
111
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile