See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Influence of Post-UV/Ozone Treatment of Ultrasonic-Sprayed Zirconium Oxide Dielectric Films for a Low-Temperature Oxide Thin Film Transistor

Oluwabi, A. T.; Gaspar, D.; Katerski, A.; Mere, A.; Krunks, M.; Pereira, L.; Oja Acik, I. (2020). Influence of Post-UV/Ozone Treatment of Ultrasonic-Sprayed Zirconium Oxide Dielectric Films for a Low-Temperature Oxide Thin Film Transistor. Materials, 13 (6).10.3390/ma13010006 .
ajakirjaartikkel
Oluwabi, A. T.; Gaspar, D.; Katerski, A.; Mere, A.; Krunks, M.; Pereira, L.; Oja Acik, I.
  • Inglise
Materials
Materials
1996-1944
13
6
2020
14
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.3390/ma13010006

Seotud asutused

i3N/CENIMAT, Department of Materials Science School of Science and Technology, FCT-NOVA, Universidade NOVA de Lisboa and CEMOP/UNINOVA, Campus de Caparica, 2829-516 Caparica, Portugal