Sensitivity of CoWO4 thin films to CO

Kärkkänen, I.; Kodu, M.; Avarmaa, T.; Kozlova, J.; Matisen, L.; Mändar, H.; Saar, A.; Sammelselg, V.; Jaaniso, R. (2010). Sensitivity of CoWO4 thin films to CO. Procedia Engineering, 5. Elsevier Science BV, 160−163.
publitseeritud konverentsiettekanne
Kärkkänen, I.; Kodu, M.; Avarmaa, T.; Kozlova, J.; Matisen, L.; Mändar, H.; Saar, A.; Sammelselg, V.; Jaaniso, R.
Procedia Engineering
Elsevier Science BV
5
2010
160163
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Thomson Reuters Book Citation Index, Thomson Reuters Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)

Viited terviktekstile