Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O3

Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O3. Thin Solid Films, 542, 100−107.10.1016/j.tsf.2013.06.074.
ajakirjaartikkel
Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
542
2013
100107
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.06.074