See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Effect of preparation conditions on properties of atomic layer deposited TiO2 films in Mo-TiO2-Al stacks

Jõgi, I.; Aarik, J.; Laan, M.; Jun, L.; Kukli, K.; Käämbre, H.; Sajavaara, T.; Uustare, T. (2006). Effect of preparation conditions on properties of atomic layer deposited TiO2 films in Mo-TiO2-Al stacks. Thin Solid Films, 510, 39−47.
ajakirjaartikkel
Jõgi, I.; Aarik, J.; Laan, M.; Jun, L.; Kukli, K.; Käämbre, H.; Sajavaara, T.; Uustare, T.
  • Inglise
Valmistamistingimuste mõju ALD meetodil valmistatud TiO2 kilede omadustele Mo-TiO2_Al paketis
Thin Solid Films
0040-6090
510
2006
3947
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS