Effect of preparation conditions on properties of atomic layer deposited TiO2 films in Mo-TiO2-Al stacks

Jõgi, I.; Aarik, J.; Laan, M.; Jun, L.; Kukli, K.; Käämbre, H.; Sajavaara, T.; Uustare, T. (2006). Effect of preparation conditions on properties of atomic layer deposited TiO2 films in Mo-TiO2-Al stacks. Thin Solid Films, 510, 39−47.
ajakirjaartikkel
Jõgi, I.; Aarik, J.; Laan, M.; Jun, L.; Kukli, K.; Käämbre, H.; Sajavaara, T.; Uustare, T.
  • Inglise
Valmistamistingimuste mõju ALD meetodil valmistatud TiO2 kilede omadustele Mo-TiO2_Al paketis
Thin Solid Films
0040-6090
510
2006
3947
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS