Post-deposition processing and oxygen content of TiO2-based capacitors

Fröhlich, K.; Hudec, B.; Aarik, J.; Tarre, A.; Machajdik, D.; Kasikov, A.; Hus'ekova, K.; Gaz'i, S'. (2011). Post-deposition processing and oxygen content of TiO2-based capacitors. Microelectronic Engineering, 88 (7), 1525−1528.10.1016/j.mee.2011.03.129.
ajakirjaartikkel
Fröhlich, K.; Hudec, B.; Aarik, J.; Tarre, A.; Machajdik, D.; Kasikov, A.; Hus'ekova, K.; Gaz'i, S'.
  • Inglise
TiO2 põhinevate kondensaatorite sadestamisjärgne töötlemine ja hapnikusisaldus
Post-deposition processing and oxygen content of TiO2-based capacitors
Microelectronic Engineering
0167-9317
88
7
2011
15251528
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.mee.2011.03.129