See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

The importance of microscopic analysis on atomic layer deposited thin solid films

Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Jõgiaas, Taivo; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas, Salvador; Castán, Helena; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile (2020). The importance of microscopic analysis on atomic layer deposited thin solid films. FMTDK Teaduskonverents 2020, Tallinn, 04.02-05.02.2020. TTÜ, 76.
publitseeritud konverentsiettekanne
Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Jõgiaas, Taivo; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas, Salvador; Castán, Helena; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile
  • Inglise
FMTDK Teaduskonverents 2020, Tallinn, 04.02-05.02.2020
2020
76
Ilmunud
3.5. Artiklid/ettekanded, mis on avaldatud kohalikes konverentsikogumikes

Seotud asutused

The University of Valladolid, Department of Electronics