See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Deposition and etching of tantalum oxide-films in atomic layer epitaxy process

Aarik, J.; Aidla, A.; Kukli, K.; Uustare, T. (1994). Deposition and etching of tantalum oxide-films in atomic layer epitaxy process. Journal of Crystal Growth, 144, 116−119.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Kukli, K.; Uustare, T.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
144
1994
116119
4
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Letter
ISI Web of Science