See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Titanium isopropoxide as a precursor for atomic layer deposition: characterization of titanium dioxide growth process

Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskela, M. (2000). Titanium isopropoxide as a precursor for atomic layer deposition: characterization of titanium dioxide growth process. Applied Surface Science, 161, 385−395.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskela, M.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
161
2000
385395
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science