Atomic layer deposition of zirconium oxide from zirconium tetraiodide, water and hydrogen peroxide

Kukli, K.; Forsgren, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Aidla, A.; Niskanen, A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Harsta, A. (2001). Atomic layer deposition of zirconium oxide from zirconium tetraiodide, water and hydrogen peroxide. Journal of Crystal Growth, 231, 262−272.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Forsgren, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Aidla, A.; Niskanen, A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
231
2001
262272
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science