See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of metal oxide films on planar and 3D substrates pre-covered by SnO2 nanoparticles

Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina, Aidla, Aleks; Tätte, Tanel; Dimri, Mukesh; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Kukli, Kaupo (2011). Atomic layer deposition of metal oxide films on planar and 3D substrates pre-covered by SnO2 nanoparticles. Atomic Layer Deposition for Applications in Nanotechnology, Leuven Belgia, 28-29.nov.2011.
publitseeritud konverentsiettekanne
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina, Aidla, Aleks; Tätte, Tanel; Dimri, Mukesh; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Kukli, Kaupo
  • Inglise
Aatomkihtsadestamise abil SnO2 nanopallidele sadestud metall oksiidid
Atomic Layer Deposition for Applications in Nanotechnology, Leuven Belgia, 28-29.nov.2011
2011
Ilmunud
3.4. Artiklid/ettekanded, mis on avaldatud valdkonda 3.1. mittekuuluvates konverentsikogumikes

Viited terviktekstile

Lisainfo