Dielectric properties of zirconium oxide grown by atomic layer deposition from iodide precursor

Kukli, K.; Forsgren, K.; Ritala, M.; Leskela, M.; Aarik, J.; Harsta, A. (2001). Dielectric properties of zirconium oxide grown by atomic layer deposition from iodide precursor. Journal of the Electrochemical Society, 148 (12), F227−F232.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Forsgren, K.; Ritala, M.; Leskela, M.; Aarik, J.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
Electrochemical Soc Inc
0013-4651
148
12
2001
F227F232
6
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science