Atomic layer deposition of ZrO2 for graphene-based multilayer structures: In situ and ex situ characterization of growth process

Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aidla, Aleks; Lu, Jun; Kiisler, Alma-Asta; Kasikov, Aarne; Ritslaid, Peeter; Mändar, Hugo; Hultman, Lars; Sammelselg, Väino; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2014). Atomic layer deposition of ZrO2 for graphene-based multilayer structures: In situ and ex situ characterization of growth process. physica status solidi (a), 211 (2), 397−402.10.1002/pssa.201330106.
ajakirjaartikkel
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aidla, Aleks; Lu, Jun; Kiisler, Alma-Asta; Kasikov, Aarne; Ritslaid, Peeter; Mändar, Hugo; Hultman, Lars; Sammelselg, Väino; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan
  • Inglise
Reaalajaline aatomkiht sadestatud ZrO2 kilede uurimine grafeeni sisaldavatel mitmekihilisetel struktuuridel
physica status solidi (a)
1862-6300
211
2
2014
397402
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1002/pssa.201330106