See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

High resolution and uniform image reconstruction in a large field-of-view for EUV actinic mask review

Kim, H.; Locans, U.; Nebling, R.; Dejkameh, A.; Kazazis, D.; Ekinci, Y.; Mochi, I. (2020). High resolution and uniform image reconstruction in a large field-of-view for EUV actinic mask review. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 11518. SPIE. DOI: 10.1117/12.2573240.
publitseeritud konverentsiettekanne
Kim, H.; Locans, U.; Nebling, R.; Dejkameh, A.; Kazazis, D.; Ekinci, Y.; Mochi, I.
  • Inglise
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
0277-786X
9781510638433
11518
2020
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Teadmata

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1117/12.2573240

Seotud asutused

Paul Scherrer Institut

Lisainfo

Conference Paper
Actmic | Extreme ultraviolet defect inspection | Lensless imaging | Mask review | Photomask | Ptychography