See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Nanoscale characterization of TiO2 films grown by atomic layer deposition on RuO2 electrodes

Murakami, Katsuhisa; Rommel, Mathias; Hudec, Boris; Rosova, Alica; Hus'ekova, Kristina; Dobroc'ka, Edmund; Rammula, Raul, Kasikov, Aarne; Han, Jeong Hwan; Lee, Wongkyu, Song, Seul Ji; Paskaleva, Albena; Bauer, Anton J; Frey, Lothar; Fröhlich, Karol; Aarik, Jaan; Hwang, Cheol Seong (2014). Nanoscale characterization of TiO2 films grown by atomic layer deposition on RuO2 electrodes. ACS Applied Materials and Interfaces, 6 (4), 2486−2492.10.1021/am4049139.
ajakirjaartikkel
Murakami, Katsuhisa; Rommel, Mathias; Hudec, Boris; Rosova, Alica; Hus'ekova, Kristina; Dobroc'ka, Edmund; Rammula, Raul, Kasikov, Aarne; Han, Jeong Hwan; Lee, Wongkyu, Song, Seul Ji; Paskaleva, Albena; Bauer, Anton J; Frey, Lothar; Fröhlich, Karol; Aarik, Jaan; Hwang, Cheol Seong
  • Inglise
RuO2 elektroodide peale aatomkihtsadestamisega kasvatatud TiO2 kilede iseloomustamine nanoskaalas
ACS Applied Materials and Interfaces
1944-8244
6
4
2014
24862492
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1021/am4049139

Seotud asutused

Chair of Electron Devices, University of Erlangen-Nuremberg, Cauerstrasse 6, 91058 Erlangen, Germany

Lisainfo

Article
high-k dielektrikud, juhtiv AFM, metall-isolaator-metall kondensaator, TiO2, Ruo2