See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Comparative ellipsometric and ion beam analytical studies on ion beam crystallized silicon implanted with Zn and Pb ions

Lohner, T.; Angelov, C.; Mikli, V. (2008). Comparative ellipsometric and ion beam analytical studies on ion beam crystallized silicon implanted with Zn and Pb ions. Thin Solid Films, 516 (22), 8009−8012.
ajakirjaartikkel
Lohner, T.; Angelov, C.; Mikli, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
516
22
2008
80098012
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo