Properties of tantalum oxide thin-films grown by atomic layer deposition

Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Kohan, O.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (1995). Properties of tantalum oxide thin-films grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 260 (2), 135−142.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Kohan, O.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA Lausanne
0040-6090
260
2
1995
135142
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science