See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

Vayrynen, Katja; Hatanpaa, Timo; Mattinen, Miika; Mizohata, Kenichiro; Meinander, Kristoffer; Raisanen, Jyrki; Link, Joosep; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskela, Markku (2019).

Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

. Advanced Materials Interfaces, 6 (3), ARTN 1801291.10.1002/admi.201801291.
ajakirjaartikkel
Vayrynen, Katja; Hatanpaa, Timo; Mattinen, Miika; Mizohata, Kenichiro; Meinander, Kristoffer; Raisanen, Jyrki; Link, Joosep; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskela, Markku
  • Inglise
Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

Advanced Materials Interfaces
HOBOKEN
2196-7350
6
3
6
2019
ARTN 1801291
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1002/admi.201801291

Lisainfo

Article
atomic layer deposition; Co3Sn2; intermetallics; Ni3Sn2; thin films