Atomic layer deposition of ruthenium thin films

Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Jõgi, I.; Kiisler, A.-A.; Mändar, H.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. (2008). Atomic layer deposition of ruthenium thin films. ALD 2008, Book of Abstracts: 8th International Conference on Atomic Layer Deposition, June29-July2,2008,Bruges, Belgium. Belgium, WedM2A-5.
publitseeritud konverentsiettekanne
Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Jõgi, I.; Kiisler, A.-A.; Mändar, H.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskelä, M.
  • Inglise
ALD 2008, Book of Abstracts
8th International Conference on Atomic Layer Deposition, June29-July2,2008,Bruges, Belgium
Belgium
2008
WedM2A-5
Ilmunud
5.2. Konverentsiteesid, mis ei kuulu valdkonda 5.1

Viited terviktekstile

Lisainfo