Influence of annealing on atomic layer deposited Cr2O3-TiO2 thin films

Pärna, R.; Tarre, A.; Gerst, A.; Mändar, H.; Niilisk, A.; Uustare, T.; Rosental, A.; Sammelselg, V. (2007). Influence of annealing on atomic layer deposited Cr2O3-TiO2 thin films. In: Ashmontas, S.; Gradauskas, J. (Ed.). Advanced Optical Materials, Technologies, and Devices (659618-1−659618-11).. SPIE. (Proceedings of SPIE; 6596).
kogumikuartikkel/peatükk raamatus/kogumikus
Pärna, R.; Tarre, A.; Gerst, A.; Mändar, H.; Niilisk, A.; Uustare, T.; Rosental, A.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Influence of annealing on atomic layer deposited Cr2O3-TiO2 thin films
Advanced Optical Materials, Technologies, and Devices
Ashmontas, S.; Gradauskas, J.
SPIE
Proceedings of SPIE
6596
2007
659618-1659618-11
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Thomson Reuters Book Citation Index, Thomson Reuters Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)

Viited terviktekstile