Deposition of HfO2 thin films in HfI4-based processes

Forsgren, K.; Harsta, A.; Aarik, J.; Aidla, A.; Westlinder, J.; Olsson, J. (2002). Deposition of HfO2 thin films in HfI4-based processes. Journal of the Electrochemical Society, 149 (10), F139−F144.
ajakirjaartikkel
Forsgren, K.; Harsta, A.; Aarik, J.; Aidla, A.; Westlinder, J.; Olsson, J.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
Electrochemical Soc Inc
0013-4651
149
10
2002
F139F144
6
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile