Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)3 and H2O

Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Mändar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2014). Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)3 and H2O. Thin Solid Films, 565, 37−44.10.1016/j.tsf.2014.06.052.
ajakirjaartikkel
Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Mändar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
565
2014
3744
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2014.06.052