Atomic layer deposition of tantalum oxide thin films from iodide precursor

Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Forsgren, K.; Sundqvist, J.; Harsta, A.; Uustare, T.; Mandar, H.; Kiisler, AA. (2001). Atomic layer deposition of tantalum oxide thin films from iodide precursor. Chemistry of Materials, 13 (1), 122−128.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Forsgren, K.; Sundqvist, J.; Harsta, A.; Uustare, T.; Mandar, H.; Kiisler, AA.
  • Inglise
Chemistry of Materials
American Chemical Society
0897-4756
13
1
2001
122128
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science