Atomic layer deposition of ferromagnetic cobalt doped titanium oxide thin films

Pore, V.; Dimri, M.; Khanduri, H.; Stern, R.; Lu, J.; Hultman, L.; Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M. (2011). Atomic layer deposition of ferromagnetic cobalt doped titanium oxide thin films. Thin Solid Films, 519 (10), 3318−3324.
ajakirjaartikkel
Pore, V.; Dimri, M.; Khanduri, H.; Stern, R.; Lu, J.; Hultman, L.; Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M.
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
519
10
2011
33183324
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile