Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Aarik, Lauri (2017). Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings. (Doktoritöö, Tartu Ülikool). Tartu: University of Tartu Press.
dissertatsioon
Aarik, Lauri
  • English
Doktoritöö
Tartu Ülikool
Tartu
University of Tartu Press
2228-0928
9789949776023
2017
1179
179
Ilmunud
2.3. Dissertatsioonide seerias ilmunud dissertatsioonid (v.a. käsikirjalised);

Viited terviktekstile

Lisainfo

Doktoritöö: Tartu Ülikool, 2017; Bibliograafia lk. 51-64; Õhukeste kilede aatomkihtsadestamine, karakteriseerimine ja rakendamine kaitsekatetena; Osaliselt kättesaadav ka võrguteavikuna (puuduvad autori publikatsioonid); Kokkuvõte eesti keeles; Juhendajad: Sammelselg, Väino