Effects of precursors on nucleation in atomic layer deposition of HfO2

Aarik, J.; Aidla, A.; Kikas, A.; Kaambre, T.; Rammula, R.; Ritslaid, P.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (2004). Effects of precursors on nucleation in atomic layer deposition of HfO2. Applied Surface Science, 230, 292−300.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Kikas, A.; Kaambre, T.; Rammula, R.; Ritslaid, P.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Effects of precursors on nucleation in atomic layer deposition of HfO2
Applied Surface Science
0169-4332
230
2004
292300
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile